中国光刻机研制进展：28nm国产光刻机研制成功

来了!28nm国产光刻机研制成功，我们离着成功又进一步!

我国芯片制造路上光刻机一直是一大难题，但由于国内技术水平有限一直无法跨越。终于好消息来了!上海华虹成功研制出了28nm光刻机，虽然和国际顶尖水平的2nm还相差甚远，但这对于我们来说已经是非常大的进步。

这是一个非常好的开始，说明在这条路上我们已经开始起跑，在科技领域的突破从来都是困难重重，光刻机集各种高端技术于一体，想要独立研制更是难上加难。现在华为已经能够自主设计出5纳米的芯片，最后的封装环节国内也能够轻松完成，显然我国半导体产业链的形成差的就是制造这一步，但是现在28纳米光刻机的突破已经让我们看到了希望，相信我们只要敢于去开始，成功离我们并不远!