光刻机研发之路道阻且长 荷兰阿斯雷尔一家独大局面何时会改变？

光刻机，又称曝光系统、光刻系统或是掩模对准曝光机。这种机器是现在最火爆的“芯片制造”的核心装备，重要性不言而喻。目前中国乃至全球光刻机产业发展一般，呈现出ASML一家独大的局面。光刻机开发难度如此之大，倾财力、物力、人力也可能依旧面临科技深渊，我们还有必要继续吗?

光刻机的重要性

答案当然是肯定的!近年来，我国虽然在科技研发上取得了多项重大进步，但在芯片研发和制造领域却亟待突破。芯片虽小，制造难度却很大，关键的工艺机器——光刻机的制造就是一大难题。目前，无论是汽车芯片，手机芯片还是其他领域芯片都离不开光刻机。现如今的光刻技术是几十年不断的优化而成的产物，如果想放弃光刻机另辟蹊径，我们将面对的无尽的黑暗，其难度不低于研发出高端光刻机。

研发之路道阻且长

我国目前能够量产的光刻机只能达到90nm制程，这与当前领先世界的荷兰阿斯雷尔公司生产的光刻机之间还存在着相当大的差距，两者之间的技术相差了近十年。光刻机的研制并不像人们想象的那么容易，要想成功研制出这个庞大的机器还有相当长一段路要走。尽管如此，我国并没有放弃对光刻机的研发。

“没有比人更高的山，没有比脚更长的路。”即使前方路再漫长，坚持走总有到达终点的那一天。光刻机的研制目前确实十分困难，但坚持研发，我们定能在光刻机和芯片研究领域创造出一番属于中国人的成绩。